高純度金顆粒蒸鍍儀

采用電子束蒸鍍金膜時,會有微小的黑色顆粒出現在金膜的表面,這些黑色的顆粒形狀大多不規(guī)則,尺寸集中在100 nm～-1μm之間,傳統的蒸鍍理論較難解釋這些黑色顆粒的成因。本文嘗試提出液態(tài)金屬表面熱發(fā)射電子引起液面上雜質顆粒"放電"的理論來解釋這一現象。這類電暈放電造成顆粒附近溫度*,瞬間將顆粒蒸發(fā)沉積在襯底。通過改變蒸鍍功率,或保持功率不變,改變電子束斑點形狀、落點位置等一系列實驗,驗證了理論的合理性。

分別用鎢坩堝和玻璃碳涂層坩堝蒸鍍金膜,采用EDS分析金膜表面黑色顆粒的主要成分.對比金膜表面黑色顆粒分布的密度;根據兩種坩堝蒸金膜時的物理學特征不同,研究黑色顆粒產生的機理,解釋碳玻璃涂層坩堝蒸金黑色顆粒較多的原因;并利用玻璃碳坩堝采取不同的工藝條件進行對比試驗,成功減少了金膜表面的黑色顆粒,為教學實驗、真空鍍膜工藝和集成電路生產領域蒸鍍高質量的金膜提供幫助.

-熱蒸發(fā)源：電阻式熱蒸發(fā)舟，交流電源、坩堝蒸發(fā)；

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腔體：不銹鋼或石英腔體可供客戶選擇；

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泵：前級干泵，分子泵；

- Load Lock

樣品傳輸腔室：手動或自動傳輸，高真空，支持多種樣品襯底(選配)；

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工藝控制：PC/PLC機制的自動控制、數據處理、工藝記憶儲存；

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襯底固定：單襯底固定，客戶化襯底固定方式；

-       襯底夾具：加熱，冷卻，偏置，旋轉等；

-       保護樣品：配有樣品擋板，可手動或自動開/關擋板，達到及時遮擋樣品效果；

高純度金顆粒蒸鍍儀KT-Z1650CVD技術資料